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        設備展示

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        退火爐

        2018/05/02 點擊量:3600

        聚酰亞胺出產設備退火爐是在半導體器材制作中運用的一種工藝,其包含加熱多個半導體晶片以影響其電功能。熱處理是針對不同的作用而規劃的。能夠加熱晶片以激活摻雜劑,將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面,使細密堆積的薄膜,改動成長的薄膜的狀況,修正注入的損害,移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。
        退火爐能夠集成到其他爐子處理過程中,例如氧化,或者能夠自己處理。退火爐是由專門為加熱半導體晶片而規劃的設備完成的。退火爐是節能型周期式作業爐,超節能結構,選用纖維結構,節電60%。

        退火爐使用現場圖

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